共創共贏
鈍化技術是在材料表麵塗覆CVD塗層來實現的，而CVD是一種通過化學氣相沉積應用於(yu) 材料表麵技術的方法，它應用氣態物質在固體(ti) 上產(chan) 生化學反應和傳(chuan) 輸反應等並產(chan) 生固態沉積物的一種工藝，它大致包含三步：
（1）形成揮發性物質 ；
（2）把上述物質轉移至沉積區域 ；
（3）在固體(ti) 上產(chan) 生化學反應並產(chan) 生固態物質 ；
SilcoTek®公司CVD（化學氣相沉積）是一種將揮發性引發劑和功能單體(ti) 氣（通常是在真空下）注入腔體(ti) 內(nei) 的反應過程，負壓進行沉積，通常真空沉積膜層質量好，腔室加熱到反應溫度，使引發劑氣體(ti) 發生反應或分解生成所需的塗層，並與(yu) 材料表麵有機的結合。隨著時間推移，塗覆氣體(ti) 逐漸形成在材料表麵上，其在暴露部分的表麵形成均勻的塗層。例如想把矽塗附著在材料表麵，使用三氯矽烷(SiHCl3) 引發劑，當SiHCl3在腔室加熱時，發生分解和產(chan) 生的矽塗層在材質表麵上，反應如下：
SiHCl3 → Si + Cl2 + HCl
矽將有機的結合到任何暴露的表麵（內(nei) 部和外部），而氯氣和鹽酸氣體(ti) 副產(chan) 品將從(cong) 腔室排放出來，其廢氣的處理根據當地的法規要求進行清除、處理。
鈍化技術是以材料表麵塗覆CVD塗層來實現的，CVD是一種通過化學氣相沉積的方法應用於(yu) 材料表麵的技術。
SilcoTek®公司CVD塗層係統中使用的材料大致有從(cong) 矽化合物到碳化合物、氟碳或有機氟，以及類似氮化鈦這樣的氮化物。一些材料如矽，可以通過摻雜不同氣，使表麵（改變或添加額外的化學物質）來進一步增強塗層的功能，以達到特定的性能目的和指標。
化學氣相沉積不同於(yu) 物理氣相沉積（PVD）等其他常見的塗層應用方法，這些與(yu) 化學氣相沉積相比，大多數常見的塗層噴塗工藝會(hui) 導致可近外盲區不均勻或沒有的塗覆產(chan) 生，化學氣相沉積塗層可以使應用於(yu) 塗層的氣體(ti) 能進入的任何區域，如上圖形象看出兩(liang) 種塗覆的區別了。
SilcoTek®公司CVD塗層工藝的特點：
▲在高溫下應用可以促進反應；
▲塗裝前必須清除零件表麵的汙染物；
▲塗層的化學成分可以隨氣相組成的改變而變化，從(cong) 而獲得梯度沉積物或者得到混合鍍層。
▲可以通過各種反應形成多種金屬、合金、陶瓷和化合物塗層。
▲塗層氣體(ti) 將覆蓋零件的所有區域，包括螺紋、盲孔、檢測器（PDHID）和內(nei) 部表麵；
▲塗層在反應過程中粘結到材料表麵，與(yu) 其他類型的PVD塗層相比，具有附著力、穩定性。
SilcoTek®公司CVD塗層的優(you) 勢：
▲可廣泛應用於(yu) 各種基材：金屬和金屬合金、陶瓷，玻璃等；
▲可噴塗精密和複雜材質表麵，包括密封區域和內(nei) 部表麵；
▲能承受低溫、高溫溫度變化；
▲持久的塗層與(yu) 基材結合，意味著塗層在高應力環境中也保持結合，即使基材表麵彎曲也能保持耐彎曲性能。通過各種技術對化學反應進行氣相擾動，以改善其結構。
