鈍化產品CVD塗層特點及優勢分析

鈍化技術是以材料表麵塗覆CVD塗層來實現的，CVD是一種通過化學氣相沉積的方法應用於(yu) 材料表麵的技術。

 



 

CVD（化學氣相沉積）是一種將揮發性前體(ti) （通常是在真空下）注入腔體(ti) 內(nei) 的反應過程，腔室加熱到反應溫度，使前體(ti) 氣體(ti) 發生反應或分解生成所需的塗層並與(yu) 材料表麵結合。隨著時間推移，塗覆材料建立在表麵上並在暴露部分的表麵形成塗層。

例如，如果想把矽附著在材料表麵，需要使用三氯矽烷(SiHCl₃)前體(ti) ，當SiHCl₃在腔室加熱時，分解和塗層反應如下：

 

SiHCl₃ → Si + Cl₂ + HCl

 

矽將結合到任何暴露的表麵（內(nei) 部和外部），而氯氣和鹽酸氣體(ti) 將從(cong) 腔室排放並根據適當的法規要求進行清除。

 



 

CVD塗層係統中使用的材料從(cong) 矽化合物到碳化合物，到氟碳或有機氟，以及類似氮化鈦這樣的氮化物。一些材料如矽，可以通過摻雜表麵（改變或添加額外的化學物質）來進一步增強塗層的功能，以達到特定的性能目標。

化學氣相沉積不同於(yu) 物理氣相沉積（PVD）等其他常見的塗層應用方法，與(yu) 化學氣相沉積相比，大多數常見的塗層噴塗工藝會(hui) 導致視線外盲區不均勻的塗覆存在，化學氣相沉積塗層理論上可以應用於(yu) 塗層氣體(ti) 能進入的任何區域，下圖形象表示出兩(liang) 種塗覆的區別。

 




SilcoTek®公司CVD塗層工藝的特點：

·在高溫下應用以促進反應；

·塗裝前必須清除零件表麵的汙染物；

·塗層氣體(ti) 將覆蓋零件的所有區域，包括螺紋、盲孔和內(nei) 部表麵；

·塗層在反應過程中粘結到表麵，與(yu) 典型的PVD塗層相比，創造了*的附著力。

SilcoTek®公司CVD塗層的優(you) 勢：

·可廣泛應用於(yu) 各種基材，包括金屬和金屬合金、陶瓷，玻璃；

·可噴塗精密表麵和複雜表麵，包括密封區域和內(nei) 部表麵；

·能承受低溫、高溫溫度變化；

·持久的塗層與(yu) 基材結合意味著塗層在高應力環境中保持結合，即使基材表麵彎曲也能適應。 

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